Пленки фоторезистов серии AZ nLOF на монокристаллическом кремнии

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Методами микроиндентирования и ИК-Фурье-спектроскопии с использованием приставки для диффузного отражения исследованы пленки негативных фоторезистов (ФР) AZ nLOF 2020, AZ nLOF 2070 и AZ nLOF 5510 толщиной 0.99–6.0 мкм, нанесенные на поверхность пластин кремния методом центрифугирования. Установлено, что пленки ФР ведут себя как упругопластичные материалы, в которых присутствуют растягивающие упругие напряжения. Наиболее интенсивными в спектрах поглощения ФР серии AZ nLOF являются линии валентных колебаний ароматического кольца, пульсационных колебаний углеродного скелета ароматического кольца, широкая структурированная полоса с несколькими максимумами в диапазоне 1050–1270 см1 и полоса, связанная с СН2-мостиком. Показано, что линия, соответствующая колебаниям CH3 групп с максимумом при 2945 см1, обусловлена растворителем. Различия в спектрах ФР AZ nLOF 2020 и AZ nLOF 2070 связаны с присутствием в пленках остаточного растворителя и взаимодействием его молекул с ароматическими кольцами основного компонента ФР.

Полный текст

Доступ закрыт

Об авторах

Д. И. Бринкевич

Белорусский государственный университет

Автор, ответственный за переписку.
Email: brinkevich@bsu.by
Белоруссия, Минск

Е. В. Гринюк

Белорусский государственный университет

Email: brinkevich@bsu.by
Белоруссия, Минск

В. С. Просолович

Белорусский государственный университет

Email: prosoloch@bsu.by
Белоруссия, Минск

О. А. Зубова

ОАО “ИНТЕГРАЛ” – управляющая компания холдинга “ИНТЕГРАЛ”

Email: brinkevich@bsu.by
Белоруссия, Минск

В. В. Колос

ОАО “ИНТЕГРАЛ” – управляющая компания холдинга “ИНТЕГРАЛ”

Email: brinkevich@bsu.by
Белоруссия, Минск

С. Д. Бринкевич

ООО “Мой медицинский центр – высокие технологии”

Email: brinkevich@bsu.by
Россия, Всеволожск

С. А. Вабищевич

Полоцкий государственный университет имени Евфросинии Полоцкой

Email: brinkevich@bsu.by
Белоруссия, Новополоцк

Список литературы

  1. AZ nLOF 20xx negative resist // www.microchemicals.com/products/photoresists
  2. Бринкевич Д.И., Харченко А.А., Просолович В.С., Оджаев В.Б., Бринкевич С.Д., Янковский Ю.Н. Модификация спектров отражения пленок диазохинон-новолачного фоторезиста при имплантации ионами бора и фосфора // Микроэлектроника – 2019 – Т. 48, № 3. – С. 235–239.
  3. Poljansek I., Sebenik U., Krajnc M. Characterization of phenol-urea-formaldehyde resin by inline FTIR spectroscopy// Journal of Applied Polymer Science. – 2006 – V. 99, № 5. – P. 2016–2028.
  4. Бринкевич С.Д., Бринкевич Д.И., Просолович В.С., Ластовский С.Б., Петлицкий А.Н. Спектры нарушенного полного внутреннего отражения пленок диазохинон-новолачного резистов. // Журнал прикладной спектроскопии. – 2020. – T. 87, № 6 – С. 941–948.
  5. Бринкевич Д.И., Гринюк Е.В., Бринкевич С.Д., Просолович В.С., Колос В.В., Зубова О.А., Ластовский С.Б. Инфракрасная Фурье-спектроскопия структур фоторезист/кремний, используемых для обратной литографии // Журнал прикладной спектроскопии. – 2023. – T. 90, № 6. – С. 863–869.
  6. Бринкевич С.Д., Гринюк Е.В., Бринкевич Д.И., Просолович В.С. Модификация пленок диазохинон-новолачного фоторезиста за областью внедрения ионов В+ // Химия высоких энергий. – 2020. – T. 54, № 5. – С. 377–386.
  7. Garcia I.T.S., Zawislak F.C., Samios D. The effects of nuclear and electronic stopping powers on ion irradiated novolac-diazoquinone films // Applied Surface Science. – 2004. – V. 228. № 1–4. P. 63–76.
  8. Тарасевич Б.Н. ИК спектры основных классов органических соединений. Справочные материалы. – М.: МГУ, 2012. – 55 c.
  9. Бринкевич Д.И., Бринкевич С.Д., Петлицкий А.Н., Просолович В.С. Трансформация спектров нарушенного полного внутреннего отражения в процессе сушки диазохинон-новолачного фоторезиста // Микроэлектроника. – 2021 – Т. 50, № 4. С. 274–280.
  10. Оджаев В.Б., Петлицкий А.Н., Просолович В.С., Ковальчук Н.С., Соловьев Я.А., Жигулин Д.В., Шестовский Д.В., Янковский Ю.Н., Бринкевич Д.И. Спектры нарушенного полного внутреннего отражения азотированных структур SiO2/Si // Журнал прикладной спектроскопии. – 2022. – T. 89, № 4. С. 498–504.
  11. Преч Э., Бюльманн Ф., Аффольтер К. Определение строения органических соединений. Таблицы спектральных данных, Москва, Мир, Бином. 2006. 438 c.
  12. Бринкевич С.Д., Бринкевич Д.И., Просолович В.С., Свердлов Р.Л. Модификация спектров нарушенного полного внутреннего отражения пленок диазохинон-новолачного резиста при облучении γ-квантами Со60 // Химия высоких энергий. – 2021. – T. 55, № 1. – С. 66–75.
  13. Бринкевич Д.И., Просолович В.С., Янковский Ю.Н. Модификация пленок диазохинонноволачного фоторезиста имплантацией ионов бора // Журнал Белорусского государственного университета. – 2020. – № 2. – С. 62–69.
  14. Бринкевич Д.И. Просолович В.С., Колос В.В., Зубова О.А., Вабищевич С.А. Инфракрасная Фурье-спектроскопия диффузного отражения пленок негативных фоторезистов серии AZ nLOF на монокристаллическом кремнии // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки. Физика – 2024. – № 2(43). – C. 34–40.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
2. Рис. 1. Структурная формула пропиленгликоля ацетата монометилового эфира (PGMEA)

Скачать (110KB)
3. Рис. 2. Отражательно-абсорбционные спектры пленок фоторезистов AZ nLOF2020 толщиной 6.0 мкм (1) и AZ nLOF2070 толщиной 5.85 мкм (2)

Скачать (206KB)
4. Рис. 3. Отражательно-абсорбционный спектр пленок негативного фоторезиста AZ nLOF5510 толщиной 0.99 мкм

Скачать (138KB)
5. Рис. 4. Отражательно-абсорбционные спектры в области колебаний ароматического кольца пленок фоторезистов AZ nLOF2070 (2) толщиной 5.85 мкм и AZ nLOF2020 (1) толщиной 6.0 мкм

Скачать (197KB)
6. Рис. 5. Отражательно-абсорбционные спектры пленок фоторезистов AZ nLOF5510 толщиной 0.99 мкм (1) и AZ nLOF2020 толщиной 6.0 мкм (2) в области валентных колебаний двойных С = О (а) и С-Н (б) связей

Скачать (260KB)
7. Рис. 6. Отражательно-абсорбционные спектры пленок фоторезистов AZ nLOF5510 толщиной 0.99 мкм (1) и AZ nLOF2020 толщиной 6.0 мкм (2) в области валентных колебаний одинарных С-О и С-С связей (а) и колебаний ароматического кольца (б)

Скачать (264KB)

© Российская академия наук, 2025